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Reactor de CVD de escritorio para la producción de grafeno

Método y sistema para producir grafeno sobre un substrato de cobre por deposición de vapores químicos (AP-CVD) modificado.

Oportunidad de negocio

Genera la oportunidad de contar con un método y sistema para producir grafeno, reduciendo costos debido al ahorro de energía y de gases síntesis, posibilitando la escalabilidad de la producción a nivel industrial.

Inventor principal

Christian Orellana Gómez

Fecha de solicitud

21 de julio de 2016
18 de julio de 2017
17 de enero de 2019
17 de enero de 2019
17 de enero de 2019
17 de enero de 2019

Inventor principal

Christian Orellana

Fecha de concesión

6 de mayo de 2019

11 de abril de 2023

14 de junio de 2022

22 de marzo de 2022

Campo de especialización

Sistema y método de producción de grafeno de alta calidad por deposición de vapores químicos (AP-CVD).

Área de industria

Madurez de tecnología

Nivel de madurez

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